ASML今年将出货60台EUV曝光机，全球只有5家客户却称霸天下

随着半导体技术进入到5nm节点以内，对EUV曝光机的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV曝光机，今年的出货量还会进一步提升。

当然，EUV这样的曝光机主要用于先进工艺，所以全球有需求也有能力购买EUV曝光机的晶片制造商也不多，ASML CEO日前在采访中提到他们在全球有5家EUV曝光机客户。

虽然没有提到实际的名单，但是台积电、三星、Intel这三家是确定的，他们的生产现在都是要用到EUV曝光机的。

还有2家应该是记忆体晶片厂商了，三星这部分已经在14nm DRAM记忆体上使用EUV曝光技术，SK海力士也跟进了，美光之前的表态相对保守一些，但迟早也会上EUV曝光机来生产记忆体晶片。

虽然只有5家客户，但是最近几年对EUV曝光机的需求提升很快，ASML预计今年会出货60台EUV曝光机，而DUV曝光机达到375台，数量依然远高于EUV。

毕竟EUV曝光机售价昂贵，单价在1.5到2亿美元，台币要46亿元以上。

ASML已成世界半导体技术中心，下一代产品有望今年交付

近年来，ASML已经成为世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光）曝光机以及90台EUV（极紫外光）曝光机。

根据ASML的首席技术长Martin van den Brink表示，目前ASML有序地执行其路线图，且进展顺利，在EUV之后是High-NA EUV技术，ASML正在为客户交付首台High-NA EUV曝光机做准备，大概会在今年某个时间点完成。

开发High-NA EUV技术的最大挑战是为EUV光学器件建构计量工具，配备的反射镜尺寸为此前产品的两倍，同时需要将其平整度控制在20皮米内。这种需要在一个「可以容纳半个公司」的真空容器中进行验证，其位于蔡司公司，这是ASML推进High-NA EUV技术的关键光学合作伙伴，是后来加入的。

,

ETH单双博彩（www.eth0808.vip）采用以太坊区块链高度哈希值作为统计数据，ETH单双博彩数据开源、公平、无任何作弊可能性。

,

High-NA EUV曝光机铁定会比现有的EUV曝光机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦。主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电。

外界还想知道，High-NA EUV技术之后的继任者？

ASML技术副总裁Jos Benschop在去年SPIE高级曝光会议上透露了可能的替代方案，即降低波长。不过这种方案需要解决一些问题，因为EUV反射镜反射光的效率很大程度上取决于入射角，而波长的降低会改变角度范围，使得透镜必须变得太大而无法补偿，这种现象也会随着数值孔径的增加而出现。

Martin van den Brink证实，ASML正在对此进行研究，不过他说以他个人而言，怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，而且不一定能真正投入生产。

「这意味经过数十年的曝光技术创新，我们可能会走到当前半导体曝光技术之路的尽头。」ASML进行Hyper-NA研究计画的主要目标是提出智慧解决方案，使技术在成本和可制造性方面保持可控。

High-NA EUV系统将提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高，可以实现更高解析度的图案化，以实现更小的电晶体特征。到了hyper-NA系统，会高于0.7，甚至达到0.75，理论上是可以做到的。

Martin van den Brink不希望制造更为庞大的「怪物」，预计hyper-NA可能是接下来半导体曝光技术发展会出现问题的地方，其制造和使用成本都会高得惊人。

如果采用Hyper-NA技术的制造成本增长速度和目前High-NA EUV技术一样，那么经济层面几乎是不可行的。就目前而言，Martin van den Brink希望可以克服的是成本问题。

由于可能存在无法克服的成本限制，电晶体缩小速度正在放缓。虽然目前继续开发新一代晶片仍然是值得的，但问题也开始变得非常现实，某些厂商或是某种类型的晶片势必将无法负担昂贵的成本，但如果厂商的需求量太小，又将无法实现规模经济。

Facebook LINE